联氨浓度对化学溶池沉积ZnS薄膜的影响

摘要：

采用化学溶池沉积法在玻璃衬底上制备ZnS薄膜.为了解联氨在沉积过程中的作用,采用金相显微镜、XRD、nkd-薄膜分析系统对薄膜形貌、结构和光学性能进行分析.结果表明:随着联氨浓度的增加,衬底表面形核点数目增加,分布均匀,薄膜颗粒得到细化.结合Zn2+的络合前驱体、络合常数及其三元络合常数计算、氢键及空间位阻等方面的分析,认为会出现3种不同的络合前驱离子,分别为、、.这些Zn2+的前驱体影响着衬底形核点的数目、分布与薄膜的均匀性.在适当条件下,联氨不再起辅助沉积的作用,而是与氨一起形成三元络合配位体系,共同参与沉积.通过改变联氨浓度,可以制备出在550～ 1 000 nm的波长范围内透过率达95%以上、反射率与透过率相对应、均匀平整的非晶薄膜.

关键词：ZnS薄膜、化学水浴、联氨浓度、络合前驱体

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分类号：O484.4(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金资助项目50963003;江西省教育厅青年科学基金资助项目GJJ09566

在线出版日期：2009-11-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：1706-1711