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10.3321/j.issn:1004-0609.2009.09.026

含氯低pH值溶液中BDT自组装膜对铜电极的缓蚀行为

引用
采用分子自组装技术,在铜电极表面形成一层1, 3-二巯基硫醇(BDT)单分子自组装膜.通过交流阻抗、极化曲线和循环伏安等电化学方法探讨该自组装膜在3%NaCl溶液中对铜电极的缓蚀作用.实验表明:BDT能够有效地组装到铜的表面形成单分子自组装膜,BDT自组装膜能有效地抑制铜基底在3%NaCl腐蚀介质以及酸性NaCl溶液中的腐蚀行为;缓蚀效率随组装时间的延长逐渐升高并趋于稳定,在pH值较低的溶液中仍具有较好的缓蚀效果;当BDT浓度为1.0×10-2 mol/L、组装时间为40 h时,铜电极的腐蚀电流最小,缓蚀效率最好.

1、3-二巯基硫醇、自组装膜、铜电极、缓蚀

19

TG174.42(金属学与热处理)

重庆市自然科学基金资助项目CSTC-2004BA4024

2009-11-27(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

1695-1699

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中国有色金属学报

1004-0609

43-1238/TG

19

2009,19(9)

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