10.3321/j.issn:1004-0609.2009.09.026
含氯低pH值溶液中BDT自组装膜对铜电极的缓蚀行为
采用分子自组装技术,在铜电极表面形成一层1, 3-二巯基硫醇(BDT)单分子自组装膜.通过交流阻抗、极化曲线和循环伏安等电化学方法探讨该自组装膜在3%NaCl溶液中对铜电极的缓蚀作用.实验表明:BDT能够有效地组装到铜的表面形成单分子自组装膜,BDT自组装膜能有效地抑制铜基底在3%NaCl腐蚀介质以及酸性NaCl溶液中的腐蚀行为;缓蚀效率随组装时间的延长逐渐升高并趋于稳定,在pH值较低的溶液中仍具有较好的缓蚀效果;当BDT浓度为1.0×10-2 mol/L、组装时间为40 h时,铜电极的腐蚀电流最小,缓蚀效率最好.
1、3-二巯基硫醇、自组装膜、铜电极、缓蚀
19
TG174.42(金属学与热处理)
重庆市自然科学基金资助项目CSTC-2004BA4024
2009-11-27(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
1695-1699