三相界面反应机制在SOM法制备金属钽中的应用

摘要：

利用同体透氧膜(SOM)法电解还原Ta2O5制备金属钽,通过三相界面反应机制讨论了阴极微结构对电解过程及产物形貌的影响.结果表明:阴极片的颗粒尺寸与孔隙率是影响有效三相界线的重要因素;孔隙率大和粒度小均有利于电解还原的进行,孔隙率小会导致阴极产物形成致密的金属钽外层,阻碍阴极进一步脱氧;成型压力4 MPa时1150℃烧结2 h制备的阴极片具有合适的孔隙率和拉度,电化学活性良好,电解产物形貌均匀,氧含量低.

关键词：金属钽、五氧化二钽、三相界线、熔盐电解、SOM法

所属期刊栏目：19

分类号：TG146.4(金属学与热处理)

资助基金：国家重点基础研究发展计划资助项目2007CB613606;国家高技术研究发展计划资助项目2006AA062124;国家自然科学基金资助项目50774052;教育部长江学者和创新团队发展计划资助项目IRT0739;教育部新世纪优秀人才计划资助项口NCET-06-0434

在线出版日期：2009-05-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：583-588