电解液组成对ZAISi12Cu2Mg1微弧氧化陶瓷膜的影响

摘要：

采用电解液成分逐渐加入法,在6种电解液中对ZAlSi12Cu2Mg1试样进行微弧氧化处理,研究电解液组成对微弧氧化陶瓷膜形成的影响,寻找合适的电解液组成.结果表明:电解液组成对陶瓷膜层的厚度、粗糙度、硬度、耐磨性、膜层微观形貌及相组成的影响很大,通过调节电解液成分,可获得性能优良的陶瓷膜.适宜的电解液组成为:8g/L NaSiO3,1 g/L NaOH,2 g/t,Na2WO4,0.5 g/L Na2EDTA及10 mL/L丙三醇.在此种电解液组成F,获得的陶瓷膜厚156 μm,面粗糙度为259nm显微硬度达HV 891.在干摩擦条件下,经30min磨损后,其磨损仅为基体的13.29%.观察膜层微观形貌,膜层均匀致密.XRD分析表明:氧化层中含有Al、莫来石、SiO2、а-Al2O3、y-Al2O3和WO3相.

关键词：ZA1Si12Cu2Mg1、电解液组成、微弧氧化、陶瓷膜

所属期刊栏目：19

分类号：TG174.4(金属学与热处理)

资助基金：内蒙古科技攻关资助项目20040202

在线出版日期：2009-05-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：459-463