磁控溅射氧化钒薄膜的相组成及性能

摘要：

采用反应磁控溅射法在玻璃基底上沉积氧化钒薄膜,分别利用X射线衍射 (XRD)、原子力显微镜(AFM)和红外光谱仪分析样品的物相、表面形貌和红外光透过率.结果表明:氧气体积分数低于15%时,薄膜为低价钒氧化物,高于20%时薄膜为V2O5;氧气体积分数等于15%时,溅射功率由150 W增加到200 W,薄膜中钒的价态变低;当溅射功率为250 W时,薄膜物相变成VO2.随着沉积时间从30 min增加到60 min,原子力显微分析显示VO2颗粒尺寸从约200 nm增加到400 nm;红外光透过率范围从55%～65%减小到45%～55%.

关键词：氧化钒、反应磁控溅射、红外透过率

所属期刊栏目：18

分类号：TG43(焊接、金属切割及金属粘接)

在线出版日期：2009-03-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：2196-2201