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10.3321/j.issn:1004-0609.2008.08.002

化学气相沉积TaC涂层的微观形貌及晶粒择优生长

引用
利用TaCl5-Ar-C3H6体系,采用X射线衍射技术和扫描电镜研究不同温度下化学气相沉积TaC涂层微观形貌及晶粒择优生长.结果表明:在800~1 200℃时,随沉积温度升高,TaC颗粒从圆球形逐渐转变为多角形以及金字塔形多面体,而其晶体择优取向依次从无明显择优取向向<220>和<200>转变;利用生长参数α和VAN DERDRIFT,MEAKIN的纳米级晶粒选择生长模型可较好地解释不同形貌的生长机制.当α=3时,薄膜会优先生长成<200>择优取向的金字塔晶粒;当α=1.5时,则容易生长成(220>取向的多角形晶粒.

TaC涂层、化学气相沉积、择优取向、微观形貌

18

TB332(工程材料学)

国家重点基础研究发展计划资助项目2006CB600908;国家高技术研究发展计划资助项目2007AA03Z100:博士后基金资助项目53370

2008-10-29(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共6页

1377-1382

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中国有色金属学报

1004-0609

43-1238/TG

18

2008,18(8)

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