铌基合金包埋渗法制备抗氧化硅化物涂层及其组织形成

摘要：

利用包埋渗法在铌基合金上制备抗氧化硅化物涂层,渗硅温度分别为1 050、1 150和1 250 ℃,渗硅时间分别为2、5、10、15和20 h.利用SEM、EDS和XRD等检测手段分析涂层的结构、元素分布及相组成等,并对涂层形成的反应机理及反应动力学进行讨论.结果表明:涂层的相组成为(Nb, X)Si2(X表示Ti, Cr, Hf和Al等元素);涂层具有双层结构,且上层较为致密;涂层与基体之间达到了冶金结合,通过扩散形成过渡层及互扩散区;在包埋渗温度分别为1 050、1 150和1 250 ℃时,涂层生长的动力学曲线均符合抛物线规律.

关键词：铌基合金、包埋渗、涂层、过渡层、互扩散区、反应动力学

所属期刊栏目：17

分类号：TG146.4(金属学与热处理)

资助基金：教育部跨世纪优秀人才培养计划;国家自然科学基金50271056

在线出版日期：2007-06-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：596-601