电沉积条件对Pd-Co合金微观相结构和耐蚀性的影响

摘要：

利用X射线衍射分析和动电位扫描技术等测试手段,考察电沉积工艺条件对Pd-Co合金镀层微观相结构和耐蚀性的影响.结果表明:钯钴合金沉积层的晶粒尺寸D(111)随电流密度、pH值和沉积时间的增加呈先减小后增大的变化趋势,随着镀液温度的升高而不断增大;当电流密度为1.0 A/dm2,pH值为8.3,沉积时间为30 min时,其晶粒尺寸最小,为8.239 6 nm;当电流密度为1.0 A/dm2,镀液温度为35℃,pH值为8.3时,钯钴合金沉积层的耐蚀性最强;而沉积时间对合金耐蚀性的影响不大.

关键词：Pd-Co合金、电沉积、微观结构、耐蚀性

所属期刊栏目：17

分类号：TG1(金属学与热处理)

在线出版日期：2007-05-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：378-383