10.3321/j.issn:1004-0609.2007.03.002
TaC涂层的氧化特征与氧化机制
用在空气中氧化、氧炔焰超高温烧蚀等方法对TaC涂层在不同温度的氧化特征与氧化机制进行研究.研究结果表明:TaC在508℃以上开始氧化,在508~690 ℃时氧化产物为六角Ta2O3固溶体,690~900 ℃时氧化产物转化为斜方Ta2O5晶体,900~1 500 ℃时氧化产物为斜方Ta2O5,其形态为龟裂或多孔烧结态,未能形成对TaC的隔离保护膜;l 500℃氧化时出现部分Ta2O5液相与Ta2O5斜方相共存的现象;在氧炔焰超高温2 300℃烧蚀时形成大量的Ta2O5熔体液膜,熔体与TaC的润湿性很好.TaC涂层由低温无熔体情况下界面反应控制机制变为氧通过熔体溶解与扩散的控制机制.
TaC涂层、氧化特征、氧化机理、活化氧化
17
TG1(金属学与热处理)
国家重点基础研究发展计划973计划2006CB600908;湖南省自然科学基金03JJY3073;湖北省教育厅科研项目D200525004
2007-05-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共8页
360-367