Cr对多弧离子镀TiN及其复合膜(Ti,Cr)N性能的影响

摘要：

通过改变Cr靶电流强度,在国产AIP-01型多弧离子镀膜机上制备不同Cr含量的(Ti,Cr)N复合薄膜.研究Cr的添加对薄膜硬度、薄膜相结构及晶格常数等性能的影响,探讨薄膜的硬化机理.结果表明:Cr的加入可显著提高复合薄膜的硬度,显微硬度可高达HV2665;复合薄膜是以TiN为基的(Ti,Cr)N薄膜,薄膜中没有独立的CrN和Cr2N相,同时由于Cr的加入,薄膜的择优取向从(111)晶面逐渐过渡到(200)晶面,随Cr靶电流的增大,所得(Ti,Cr)N复合膜中出现单质Cr.

关键词：TiN、(Ti Cr)N、离子镀、复合薄膜、硬度、相结构

所属期刊栏目：16

分类号：TB43;TG115.21(工业通用技术与设备)

资助基金：广东省自然科学基金116-B65130;广东省科技厅科技计划102-B26650

在线出版日期：2006-08-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：1227-1232