10.3321/j.issn:1004-0609.2006.06.016
MOSi2涂层的组织结构与高温抗氧化性能
采用包渗法在Nb-10W合金基体上制备MoSi2涂层,测试了涂层试样的1 600℃静态抗氧化和室温至1 600℃循环抗氧化性能,分析了硅化过程中涂层的形成机理、涂层表面和截面的形貌以及氧化后涂层成分与结构变化.采用包渗法制备的硅化物涂层是通过反应扩散形成的,该涂层为复合结构:MoSi2相主体层;以NbSi2相为主、并含少量Nb5Si3相的两相过渡区;Nb5Si3相扩散层;该涂层结构表现出良好的高温抗氧化和抗热震性能;Si的扩散是通过空位的反应流动实现的,空位在主体层与两相过渡区界面处聚集成微孔带,氧化后微孔带宽度增加;致密的低硅化物扩散层能有效地阻止裂纹向基体扩展.
铌合金、硅化物涂层、二硅化钼、包渗法、高温抗氧化
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TG174.44(金属学与热处理)
湖南省科技攻关项目05JT1065
2006-07-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共6页
1028-1033