不同能量沉积方式对薄膜界面反应的影响

摘要：

通过分子束外延(MBE)和脉冲激光沉积(PLD)将1～10个Fe原子层(ML)以楔型(wedge-shape)方式分别沉积到NiO(001)基片上,并对其进行磁光克尔效应(MOKE)原位测试.结果表明:通过MBE这种低能量沉积方式沉积的Fe原子层在Fe/NiO界面处产生了约2 ML的磁死层;而通过PLD这种较高能量沉积方式沉积的Fe原子层在Fe/NiO界面处产生了约3 ML的磁死层.X射线光电子能谱(XPS)研究Fe/NiO界面的结果表明:两种沉积方式都能使Fe原子与单晶NiO在界面处发生化学反应,这是导致磁死层的一个重要原因;对于MBE和PLD沉积方式来说,从靶材上被蒸发或溅射下来到达基片的原子所具有的能量很低,分别约为0.1 eV和1.0 eV,反应层较浅;磁控溅射沉积Fe原子的能量约为几～十几电子伏特,导致的反应深度约1.5 nm.

关键词：界面反应、磁性薄膜、X射线光电子能谱

所属期刊栏目：15

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

资助基金：新世纪优秀人才支持计划NCET-04-0104;高等学校博士学科点专项科研项目2003008003;教育部科学技术基金104023

在线出版日期：2005-12-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：1811-1815