射频等离子体辅助化学气相沉积Ti-B-N薄膜的结构与性能

摘要：

研究了射频等离子体辅助化学气相沉积获得的Ti-B-N薄膜的微观组织结构和力学性能.结果表明:B的加入使Ti-B-N薄膜中出现TiN纳米晶、BN非晶和TiB2非晶(nc-TiN/a-BN/a-TiB2)的复相结构.Ti-B-N薄膜组织致密,晶粒细小,薄膜硬度显著提高.用球盘式磨损实验考察了薄膜的摩擦学特性.与TiN相比,Ti-B-N薄膜抗磨损性能有显著提高,磨损机制为微观切削与疲劳磨损共同作用,但摩擦系数较TiN稍高.

关键词：射频等离子体辅助化学气相沿积、Ti-B-N薄膜、硬度、耐磨性

所属期刊栏目：14

分类号：TG174.44(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金50271053,50371067;国家自然科学基金GRD2001-40419;欧盟第五框架研究开发基金GRD2001-40419

在线出版日期：2005-03-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：1985-1989