10.3321/j.issn:1004-0609.2003.05.049
铝膜的低价硫化铝歧化反应制备法
对用低价硫化铝的歧化反应进行钢基镀膜作了定性研究. 用两种蒸发源(2Al2O3+6C+Al2S3)和(4Al+Al2S3)分别进行反应蒸发镀膜, 系统真空度为5 Pa左右, 基材温度为1 100 ℃. 研究结果表明: 以(2Al2O3+6C+Al2S3)为蒸发源的钢基镀膜层为α-Fe及Al13Fe4相, 对硝酸酒精溶液具有抗蚀性好的特点, 但其平整性稍差, 扩散层薄; 以(4Al+Al2S3)为蒸发源的镀膜层为Fe3Al及AlFe相, 其镀膜层表面光滑, 平整, 扩散层厚等特点.
低价硫化铝、铝、镀膜
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TG174(金属学与热处理)
2003-12-12(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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