10.3321/j.issn:1004-0609.2003.01.028
全层状TiAl合金层片生长及其影响因素
利用光学显微镜(OM)和TEM, 研究了全层状TiAl合金的层片间距的影响因素及与各因素的关系.实验结果表明, 全层状TiAl合金的层片间距与冷却速度和合金中铝含量有关, 层片间距与冷却速度呈反比关系, 并随着合金中铝含量的增加而增加.同时, 以层片生长的台阶机制为基础, 推导出了全层状TiAl合金在连续冷却过程中层片间距的数学表达式, 推导结果与实验结果相符.
TiAl合金、层片间距、冷却速度、Al含量
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TG146;TG132.32(金属学与热处理)
国家自然科学基金59895150;国家高技术研究发展计划863计划715-005-0040
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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