预氧化处理对碳化硼陶瓷纳米磨损性能的影响

摘要：

用点接触显微镜在纳米尺度上研究了碳化硼材料的磨损特性, 考察了热压碳化硼及经1 073 K预氧化处理1 h的两种试样的磨损深度随载荷、磨损次数、扫描速度等的变化关系.结果表明: 未经预氧化的碳化硼试样的磨损深度很小, 而经过预氧化处理的碳化硼试样的磨损深度远远大于未经氧化的试样;两者的磨损深度均随载荷的增加而显著增加;未经氧化的碳化硼试样由于其在纵向上的结构是均匀的, 磨损深度随磨损次数的增加呈线性增加, 经氧化处理的碳化硼试样的磨损深度随磨损次数的增加呈现两段线性关系, 可推断表层的H3BO3膜厚度为120～140 nm; 这两种试样的磨损深度均与扫描速度无明显关系.

关键词：碳化硼、纳米摩擦、磨损深度、预氧化

所属期刊栏目：13

分类号：TQ174.67

资助基金：国家科技攻关项目98-A28-11

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：132-135