制备工艺对WO3/TiO2薄膜可见光催化活性的影响

摘要：

采用磁控溅射技术在浸渍提拉法制得的TiO2薄膜上溅射WO3层, 通过不同制备工艺控制W在TiO2晶体中的分布. UV-VIS透射光谱表明, 在可见光范围内溅射有WO3层的薄膜有不同程度的吸收光谱红移现象. 并理论计算出带隙能, 溅射WO3层使薄膜的带隙能变小. 甲基橙光催化降解实验表明, 以焙烧-溅射-热处理5h工艺制备的WO3/TiO2薄膜可见光活性最佳, W从薄膜表面到内层的浓度递减分布. 讨论了不同制备工艺引起的W在薄膜内部的不同分布对光催化活性的影响.

关键词：薄膜、可见光催化活性、二氧化钛、磁控溅射、氧化钨

所属期刊栏目：12

分类号：O643;X5(物理化学（理论化学）、化学物理学)

资助基金：广东省自然科学基金010873;广东省科技厅科技计划A3040301

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：1299-1303