ZL系列铸铝合金的微弧氧化

摘要：

对含硅量为8%～12%的ZL系列铸铝合金的微弧氧化工艺条件、膜层结构以及成膜过程进行了研究. 结果表明: 采用不对称交变电压和在以硅酸钠为主要成分的复合电解液体系中, 铸铝合金表面可获得一层性能优异的微弧氧化膜层.电子能谱(EDS)和X射线衍射(XR D)分析结果表明微弧氧化膜主要由Al, Si和O元素组成, 膜的相结构主要为η -Al 2O3, α -Al2O3和SiO2, 并含有γ -Al2O3和Mg, W, Cu等元素的氧化物. 扫描电镜(SEM)分析表明微弧氧化膜由致密层(内层)和疏松层(外层)构成, 疏松层表面存在许多气孔, 而致密层完整光滑, 具有较高的显微硬度和优异的耐磨耐蚀性能.

关键词：铸铝合金、微弧氧化、膜层性能

所属期刊栏目：12

分类号：TG174.451(金属学与热处理)

资助基金：机械工业部科技发展基金97JA05040;湖南省自然科学基金OOJJY2086

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：491-495