10.3321/j.issn:1004-0609.2001.z1.043
磁过滤对多弧离子镀(TiAl)N薄膜的影响
介绍了利用过滤电弧离子镀沉积(TiAl)N薄膜初步的研究结果. 在电弧靶材前沿的磁场作用下, 有效减小了薄膜的宏观颗粒尺寸, 并极大地降低了颗粒密度. 同时, 过滤电弧的作用, 使偏压对膜成分的影响减弱, 薄膜的硬度随膜中铝含量的增加而提高, (TiAl)N的抗氧化能力明显提高.
过滤电弧、薄膜、宏观颗粒、抗氧化性能
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TG172.44(金属学与热处理)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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