弱碱性抛光液中铜化学机械抛光的电化学行为

摘要：

在弱碱性介质里以铁氰化钾为钝化剂,对铜化学机械抛光技术(CMP)过程中的电化学行为进行了在线测试.考察了铜在有无铁氰化钾存在下的极化行为及铁氰化钾浓度对腐蚀电位的影响,研究了在不同压力下铜抛光前后的腐蚀电位(ψE)和腐蚀电流密度(Jc)的变化规律,比较了抛光前及抛光过程中铜极化曲线的变化.定性地通过成膜的快慢及抛光过程中腐蚀电流密度的大小来说明抛光速率的高低.证明了以弱碱性溶液为介质、铁氰化钾为成膜剂、纳米γ-Al2O3为磨粒的CMP配方的可行性.

关键词：铜、化学机械抛光、电化学行为

所属期刊栏目：11

分类号：O69;O646.6(应用化学)

资助基金：国家自然科学基金5992512;湖南省杰出青年科学基金98JZY2167

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1140-1143