TiAl基合金的氧化分层
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10.3321/j.issn:1004-0609.2001.03.012

TiAl基合金的氧化分层

引用
用SEM及EDS研究了5种TiAl基合金经800~1 000 ℃, 100 h断续氧化及循环氧化后氧化剖面的结构、组成。结果显示, TiAl氧化表面存在分层现象。首先形成(TiO2+Al2O3)混合层,其次是新相过渡层;较少观察到连续的Al2O3层。因应力作用,氧化层开裂乃至剥离后,化学分层转入物理分层阶段,氧化层保护性恶化。

TiAl、氧化、分层、生长应力、热应力

11

TG174.3(金属学与热处理)

2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共6页

398-403

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中国有色金属学报

1004-0609

43-1238/TG

11

2001,11(3)

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