EBSD技术在大塑性变形制备超细晶与纳米材料中的应用:试样制备、参数优化与数据分析
在场发射扫描电镜的帮助下,电子背散射技术(EBSD)能用来研究大小低达几(十)纳米的晶粒(或亚晶粒),其角分辨率达~0.5°.EBSD技术的快速发展(电子衍射花样的采集速度已高达1100点/s)使其相关领域的科技论文发表数量迅速增加.本文评述了EBSD的试样制备、参数优化和数据分析,特别是在大塑性变形(SPD)制备超细晶和纳米材料方面的应用.总结了电化学抛光、二氧化硅乳液机械抛光和离子束抛光等EBSD试样制备技术的优缺点和实用参数.结果表明,离子束抛光技术是一项通用的、几乎适用于所有EBSD试样的有效抛光方法.随着EBSD扫描步长的变化,花样的标定率存在一个极大值.最优化的EBSD扫描步长取决于试样图片的放大倍数和数据采集板的分辨率(或电子步长).对晶粒和亚晶粒、织构和晶界结构等进行分析是EBSD的基本功能.EBSD也可对塑性变形的应变和存储能等进行分析.
电子背散射技术(EBSD)、试样制备、参数优化、扫描步长、大塑性变形(SPD)
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TG1;TB3
Project 192450/I30 supported by the Norwegian Research Council under the Strategic University Program
2013-03-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共9页
1801-1809