计算光刻与版图优化

摘要：

光刻是集成电路制造的核心技术,光刻工艺成本已经超出集成电路制造总成本的三分之一.在集成电路制造的诸多工艺单元中,只有光刻工艺可以在硅片上产生图形,从而完成器件和电路三维结构的制造.计算光刻被公认为是一种可以进一步提高光刻成像质量和工艺窗口的有效手段.基于光刻成像模型,计算光刻不仅可以对光源的照明方式做优化,对掩模上图形的形状和尺寸做修正,还可以从工艺难度的角度对设计版图提出修改意见,最终保证光刻工艺有足够的分辨率和工艺窗口.

机标关键词：版图优化

分类号：TN402;TN386.1;TN713-34

在线出版日期：2021-01-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共1页

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