高纯镱晶间杂质组成及形成原因研究

摘要：

高纯度稀土金属Yb靶材在气相沉积镀膜领域具有广泛应用,但目前还原-蒸馏法制备的Yb中弥散分布的黑色杂质严重影响了镀膜膜层的质量.采用XRD,SEM,EDS和碳硫分析仪等检测手段对Yb中黑色杂质的组成和形貌特征进行研究,结果表明杂质是以颗粒形式赋存于晶界的稀土氢化物.稀土氢化物杂质中的H主要由被污染的还原剂La以稀土氢化物和吸附水分子的形式带入反应器,其含量与温度、湿度等环境状态因素密切相关.此外,针对带有黑点的不合格Yb也提出了对应的解决策略,该研究为生产高质量的稀土金属Yb提供了技术保障.

关键词：高纯金属、稀土金属、稀土氢化物、还原蒸馏、镱

所属期刊栏目：39

分类号：TF845.3(有色金属冶炼)

资助基金：国家重点实验室自主课题2020Z2135

在线出版日期：2021-12-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：766-774