氧分压对ZnO∶Eu3+,Li+薄膜结构和光学性质的影响

摘要：

利用脉冲激光沉积(PLD)法在Si(111)衬底上制备了ZnO∶Eu3+,Li+薄膜,分别通过XRD谱和光致发光(PL)谱测试研究了氧分压不同时薄膜结构和发光性质.XRD谱研究表明,所有样品均仅出现ZnO基质的(002)衍射峰,说明Eu3+已进入ZnO基质晶格,没有单独形成结晶氧化物.PL谱研究表明,当用325 nm的光激发样品时,样品的发光仅由ZnO基质的紫外发光和绿光发射组成,没有出现稀土Eu3+的特征发光峰.当用395nm的光激发样品时,在594和613 nm处出现两个明显的Eu3+特征发光峰,分别属于Eu3+的磁偶极跃迁(5D0→7F1)和电偶极跃迁(5D0→7F2),而且随着氧压的增加,594 nm处的发光峰强度变化不大,但613 nm处的发光峰强度明显增强.

关键词：ZnO∶Eu3+、Li+薄膜、脉冲激光沉积、XRD、光致发光

所属期刊栏目：33

分类号：O484.4(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金资助项目10974077,曲阜师范大学博士启动基金2012052

在线出版日期：2016-02-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：676-681