直流磁控溅射工艺对SmCo薄膜的影响

摘要：

采用不同的直流磁控溅射工艺, 制备了SmCo薄膜.分别用能谱(EDAX)和俄歇谱仪(ASE)对薄膜的平均成份和表面到内部成份分布进行了分析, 用振动样品磁强计(VSM)分析了薄膜的磁性能, 用原子力显微镜(ATM)分析了溅射薄膜的表面颗粒形貌.结果表明, 溅射工艺因素对薄膜的成份和磁性能有较大的影响.

关键词：直流磁空溅射、SmCo薄膜、工艺、稀土

所属期刊栏目：21

分类号：TG146.33(金属学与热处理)

资助基金：教育部科学技术基金

在线出版日期：2004-02-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：137-140