溅射气体中氩气含量对Y1Ba2Cu3O7-δ薄膜结构和Tc的影响

摘要：

采用倒筒直流磁控溅射系统在不同溅射气体组分下(氩氧比不同)原位沉积Y1Ba2Cu2O7-δ(YBCO)薄膜.样品的XRD分析发现在Ar含量过高和过低的溅射气氛下沉积的薄膜存在极少量的BaCuO2第二相, 同时显示薄膜的c轴长度, (006), (007)对(005)峰强度比随着溅射气体中Ar含量的变化而发生改变.通过薄膜超导零电阻温度检测发现, YBCO薄膜的超导零电阻温度Tc随之发生改变.这说明在磁控溅射沉积YBCO薄膜过程中, 溅射气体中Ar气含量影响薄膜各元素的化学计量比, Ar含量过高和过低导致沉积YBCO薄膜晶体结构发生畸变, 恶化超导电性.

关键词：Y1Ba2Cu2O7-δ、(YBCO)薄膜、溅射气体组分、(Ar/O2)、超导零电阻温度

所属期刊栏目：21

分类号：O614.33(无机化学)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划22002AA306131

在线出版日期：2004-02-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：41-43