在多晶金属基片上制备双轴织构YSZ膜

摘要：

采用调制偏压射频磁控溅射技术在多晶Hastelloy-C金属基带上制备钇稳定的ZrO2薄膜(YSZ), 得到了c-轴织构和部分平面内双轴织构的YSZ薄膜. 用X射线衍射θ-2θ扫描、ω扫描和φ扫描对YSZ薄膜的织构进行了测量, 并研究了沉积条件对织构形成的影响.

关键词：稀土、YSZ膜、双轴织构、调制偏压溅射

所属期刊栏目：16

分类号：TQ133

资助基金：中国科学院资助项目59671052;国家超导委员会资助项目

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：277-279