ITO薄膜和新型金属化对双面TOPCon电池电性能的影响研究

摘要：

使用磁控溅射设备制备ITO薄膜和全面积银电极,该文分析了ITO薄膜沉积速率、方块电阻、电阻率和透射率的变化情况,以确定最佳工艺,再对电池的发射极和n型多晶硅钝化性能进行测试分析.使用最佳工艺在TOPCon半成品电池正面和背面沉积ITO薄膜和银电极,测试、分析其对电性能的影响.研究结果表明,当溅射时间为24 min时,电阻率相对较小,透过率对应值大约为88％和86％.当正面光照Ⅳ测试时,TOPCon电池背面沉积ITO薄膜和银电极比常规浆料印刷电极的短路电流、填充因子和转换效率分别高了61 mA、1.6％和0.28％,且全面积金属电极与氧化硅层、衬底及多晶硅层的接触电阻满足要求.

关键词：TOPCon电池、新型金属化、发射极、n型多晶硅、ITO薄膜

分类号：TM914

在线出版日期：2023-04-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：28-31