10.3969/j.issn.1673-9957.2019.09.012
8英寸薄层硅外延片的均匀性控制方法
作为半导体硅器件和集成电路中经常会使用的一种基础功能的材料,硅外延片的性能非常优越,是我国电子信息技术产业发展过程中经常会用到的材料.半导体器件薄层硅外延片在半导体中的应用范围非常广泛,其在半导体器件中担任的主要是电路功能.该文就8英寸薄层硅外延片的均匀性控制进行研究,希望能够在一定程度上提高8英寸薄层硅外延片的质量.
8英寸硅外延片、薄层外延、外延层厚度
TN304(半导体技术)
2019-06-06(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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