外源补光对温室遮光部位黄瓜生长的影响

摘要：

为研究外源补光对温室遮光部位黄瓜生长的影响,以‘绿剑’旱黄瓜为试验材料,在冬季对模拟温室墙下的植株分别进行补光,并以未补光植株作为对照,分别测定了在不同光照条件下,植株生长过程中的营养生长情况、相关生理生化指标以及光合作用中相关生化指标的变化情况.结果表明:处理W1较WCK的产量提高了146.96％,处理E1较ECK的产量提高了245.15％,说明通过一定的外源补光,能够有效地提高受到遮挡植株的各方面生理指标,最终达到提高产量的目的.

关键词：黄瓜、温室、遮挡部位、生长、外源补光

所属期刊栏目：29

分类号：TQ4;S51

资助基金：俄罗斯等国农业资源创新和成果推广服务平台建设2014QE6AE002

在线出版日期：2016-06-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：11-13