10.3969/j.issn.1009-0622.2019.01.010
难熔金属溅射靶材的应用及制备技术
应用于微电子、集成电路、光伏电池、平面显示器、装饰镀膜玻璃等行业的溅射靶材需求量逐年增大,这些行业对溅射用难熔金属靶材的纯度、致密度、尺寸精度、微观组织、结晶取向等性能提出了更高的要求.综述了磁控溅射用W、Mo、Ta、Nb靶材的主要应用研发生产单位和制备技术,介绍了靶材组织、纯度等因素对薄膜性质的影响.
难熔金属、磁控溅射、靶材、集成电路、太阳能电池
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TB43(工业通用技术与设备)
2019-07-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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