化学气相沉积钨制品的研究现状与发展趋势

摘要：

化学气相沉积(Chemial vapor deposition,CVD)是制备高纯高致密钨零件及涂层的重要工艺.通过介绍采用CVD方法制备的纯钨材料的工艺与技术特点,并从CVD-W材料特性、产品种类,相关应用方向等方面阐述了CVD技术在钨材料制造中的发展情况,介绍了CVD-W在国防军工、核能、医疗等行业领域的应用,总结了CVD-W制备技术和材料的国内外现状,并指出了未来国内CVD技术在钨及难熔金属应用领域发展的总体方向.

关键词：钨、化学气相沉积、涂层、难熔金属

所属期刊栏目：30

分类号：TF114.1;TF125.2+41(冶金技术)

资助基金：第56批中国博士后科学基金面上项目二等资助2014M561867

在线出版日期：2015-06-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：53-59