制备工艺对掺铕的钨酸钙薄膜发光性能的影响

摘要：

采用射频溅射法在硅片上沉积了Ca0.98WO4∶Eu0.02薄膜，利用正交试验研究了溅射时间、气压和功率对Ca0.98WO4∶Eu0.02薄膜的红光（615 nm）发光强度的影响。荧光分析表明，溅射法沉积的Ca0.98WO4∶Eu0.02薄膜需在700~800℃热处理后才能强烈地表现出Eu3+离子的特征发光行为；正交试验说明，溅射气压、时间和功率对薄膜的发光强度都有重要影响，溅射气压的影响尤为重要。研究还表明，为提高发光强度，溅射气压宜控制在1.0 Pa左右，溅射时间在160 min。

关键词：钨酸钙、铕、溅射、薄膜、发光性能

分类号：TB383;TF804.3(工程材料学)

资助基金：国家自然科学基金项目资助50802036

在线出版日期：2014-05-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：24-27