难熔金属阴极及涂层研究进展

摘要：

介绍了稀土钼金属陶瓷阴极、钪钨基扩散阴极及化学气相沉积法制备钨涂层.为了满足大功率磁控管的发展要求,研究了新型稀土钼金属陶瓷阴极.经过高温激活处理后,材料的最大次级发射系数达5.24,实用管型测试结果表明,稀土钼金属陶瓷阴极的性能优于钡钨阴极,显示了良好的应用前景.亚微米结构的钪钨基扩散阴极具有优异的热发射性能,850℃下阴极的发射电流密度可达42A/cm2,激活后Ba,Sc,O等元素形成的活性多层,均匀覆盖在阴极表面,促进了阴极的发射.采用热壁开管气流CVD法,以WF6和H2为反应源气体,可以方便地制备成难熔金属钨沉积层.所获得钨沉积层具有高纯度(＞99%)和高致密度(＞19 g/cm3).

关键词：钨、钼、阴极、涂层

所属期刊栏目：24

分类号：TG146.4+11(金属学与热处理)

资助基金：国家863项目资助项目2006AA032524

在线出版日期：2010-01-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：116-120,124