磁控溅射Ti/WO3薄膜的微结构及光学性能

摘要：

采用直流反应磁控溅射技术在玻璃基片上制备不同氧分压的Ti掺杂的WO3薄膜.用X射线衍射(XRD)、分光光度计、台阶仪等对薄膜的结构、光学性质进行表征;分析不同的氧分压对气敏薄膜透光率和结构的影响.结果表明,氧分压增大,膜厚减小,薄膜的平均晶粒尺寸增大,晶面间距增大,光学带隙变小.并用包络线法和经验公式法计算出薄膜的光学常数,结果表明,折射率和消光系数随氧分压的增加而增大.

关键词：磁控溅射、Ti/WO3薄膜、微结构、光学常数

所属期刊栏目：23

分类号：TP212.1(自动化技术及设备)

资助基金：重庆市教委科学技术项目KJ070804

在线出版日期：2008-08-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：23-26