高压密闭消解-钼蓝分光光度法测定钴铬烤瓷合金中硅

摘要：

在HNO3-HCl-HF混酸中高压密闭消解,采用钼蓝分光光度法测定钴铬烤瓷合金中的硅量.研究了酸体系、消解时间及共存离子对硅测定的影响.方法用于已知样品的测定,相对标准偏差小于3％(n=11),加标回收率为98.9％～101％.方法精密度高、准确度好,能够满足钴铬烤瓷合金中硅含量测定的要求.

关键词：高压密闭消解、钴铬烤瓷合金、硅、分光光度法

所属期刊栏目：7

分类号：O657.31;TH744.12+2(分析化学)

资助基金：广东省科学院科研平台建设专项2016GDASPT-0316,2016GDASPT-0201;广东省科技厅项目粤科规财字[2014]208号

在线出版日期：2018-01-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：69-72