退火温度对原子层沉积TiO2薄膜结构、形貌和光学性能影响

摘要：

采用原子层沉积技术(ALD)在石英衬底上制备了 Ti02薄膜,并对其进行不同温度的快速光热退火处理.采用X射线衍射仪(XRD)、拉曼(Raman)光谱、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和紫外-可见分光光度计(UV-Vis)对薄膜进行表征.研究了退火温度对薄膜结构、表面形貌和光学性能的影响.结果表明:当薄膜未退火时,其具有非晶态性质;薄膜在300～600℃的范围下退火时,其具有结晶态性质.当样品在未退火下,其表面粗糙度和光学带隙分别为17.226 nm和3.57 eV;随着退火温度不断升至600℃时,薄膜的表面粗糙度增至30.713 nm变大,晶粒尺寸增至24.75 nm,光学带隙减至3.41 eV.此外,样品的折射率和消光系数随着退火温度的升高呈下降趋势.在实验条件下,最佳退火温度为600℃.

关键词：Ti02薄膜、原子层沉积(ALD)、快速光热退火(RPTA)、光学性能

所属期刊栏目：58

分类号：TQ174.75+8.11

资助基金：国家自然科学基金;云南省高校科技创新团队支持计划资助项目

在线出版日期：2022-09-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：16-21