10.16521/j.cnki.issn.1001-642.2020.04.006
GZO薄膜溅射工艺对性能的影响研究
透明导电氧化物(TCOs)薄膜近来发展迅速,旨在研究GZO薄膜溅射功率变化对其结晶性能、表面形貌、电学性能以及光学性能的影响.研究结果表明,在采用直流磁控溅射制备GZO薄膜时,存在一个较佳溅射功率范围,有利于促进GZO薄膜粒子扩散迁移,生长及结晶性能的提升,薄膜内载流子浓度和霍尔迁移率的增加,优化薄膜电学性能.同时GZO薄膜表面由蜂窝状形貌转变为颗粒状形貌,薄膜透光性能相对较好.
溅射功率、结晶性能、电学性能、光学性能
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O484;TQ174.75+8(固体物理学)
安徽省科技攻关计划17030901085
2020-06-11(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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