青瓷釉的自还原法制备及机理研究

摘要：

以生料石灰碱釉为基础,通过四角配料法确定青瓷釉基础配方.在此基础上,外加还原剂硅粉在氧化气氛下成功制备青瓷釉.并借助于紫外可见分光光度计、XPS、TG-DSC进行分析.研究表明:自还原法制备青瓷釉最佳配方为:24％熔块、30％石英、24％长石、8％方解石、5％高岭土、3％滑石、4％氧化锌、2％氧化锡、1％氧化铁、0.4％硅粉,最佳烧成温度为1250 ℃;随着还原剂硅粉加入量的增加,硅粉与三氧化二铁氧化反原反应更加充分,使得釉面朝着青色调方向改变.与此同时釉内残余石英逐渐增多且尺寸变大,当硅粉加入量超过0.45wt％时釉面产生缺陷;其呈色机理为:随着还原剂硅粉加入量的提高,釉内Fe3+与Fe2+的含量比减少,且釉面在紫外区吸光性增强,即釉内二价铁离子的增加起到增色效应,故而呈青色.

关键词：青瓷釉、烧成气氛、自还原法、反应机理

所属期刊栏目：55

分类号：TQ174.4+3

资助基金：国家自然科学基金51472153

在线出版日期：2019-12-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：58-66