柔性FEP基底修饰对ZnO∶Al薄膜透明导电与附着力性能的影响研究

摘要：

采用O2等离子体对柔性氟化乙烯丙烯共聚物(FEP)进行表面处理,然后,利用射频磁控溅射法在柔性氟化乙烯丙烯共聚物(FEP)上沉积修饰一层超薄SiO2,再沉积生长ZnO∶Al薄膜.主要研究探讨柔性FEP基底修饰对ZnO∶Al薄膜结构、薄膜界面结合状态、薄膜形貌、电学性能、弯曲后电学性能退化、光学性能和薄膜附着力的影响机理,利用XRD、XPS、AFM、SEM、UV-Vis-NIR分光光度计、ScotchTM粘附力测试、PPMS、四探针等表征手段对薄膜结构、成分、形貌、界面及薄膜物理性能进行表征.实验表明:柔性FEP基底经修饰后生长的ZnO∶Al薄膜的结晶性能得到明显的提升、薄膜内应力有效降低、SiO2与柔性基底之间产生少量的化学键合.FEP柔性基底经修饰后,ZnO∶Al薄膜的电学性能、缓减弯曲后的电学性能变化等到明显改善、薄膜附着力有明显提高.

关键词：TCO、柔性透明导电薄膜、表面修饰、薄膜附着力、射频磁控溅射

所属期刊栏目：55

分类号：TQ174.75

资助基金：创新项目USCAST2013-28

在线出版日期：2019-03-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：44-51