分层纳米结构的钴酸镍/四氧化三钴复合电极的制备及其电化学性能研究

摘要：

通过低温溶剂热和水热两步法成功制备出分层结构的NiCo2o4/Co3O4纳米片阵列,并均匀生长在泡沫镍基底上.电化学测试表明,这种纳米片阵列复合电极表现出优异的电容性能.在2 mA.cm-2时,面积比电容高达6.05 F.cm-2,当电流密度提升至20 mA.cm-2,依然保持良好的倍率性能,经1 500次恒流充放电之后电容保持率为93.8％.这种优异的性质与介孔、高比表面积的分层纳米片这一新颖的结构有密切关系.

关键词：赝电容、钴酸镍、四氧化三钴、纳米片阵列

所属期刊栏目：53

分类号：TQ174.75+8.2

资助基金：国家自然科学基金51402051

在线出版日期：2017-11-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：19-25