基于多孔Si3N4陶瓷基底BN涂层制备与表征

摘要：

在多孔氮化硅陶瓷(Si3N4)表面制备氮化硼(BN)涂层,可以提高天线罩的多方面性能,其研究具有重要的工程应用价值.以硼酸(H3BO3)及碳黑为原料,利用两种方法制备BN涂层,一种方法是在氮化硅基体表面涂覆H3BO3与炭黑,然后在氮气气氛下烧结制备BN涂层(简称一步法);另一种方法采用H3BO3分解在多孔Si3N4基体表面制备B2O3涂层,然后利用碳热还原反应将B2O3涂层转变为BN涂层(简称两步法),通过X射线衍射分析(XRD)观察了涂层的物相组成,扫描电镜(SEM)观察涂层的形貌及涂层与基体的结合情况.研究结果表明:两种方法制备的涂层由BN组成,无残余B2O3,其中一步法制备的涂层表面粗糙,存在大量裂纹和气孔,涂层厚度较厚,大约17μm;两步法制备的涂层结构致密,表面光滑,涂层厚度约为2μm,且与基体结合良好.

关键词：多孔氮化硅、氮化硼、涂层、制备、表征

所属期刊栏目：53

分类号：TQ174.453

资助基金：国家自然科学基金;国家自然科学基金;中国博士后科学基金

在线出版日期：2017-09-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：11-15