阴极电弧技术制备TiAlN与TiAlSiN涂层的性能研究

摘要：

阴极电弧技术(cathode arc technology)具有真空蒸镀及溅射镀膜的优点,目前而言该技术还在被不断地研究与发展.文章介绍了阴极电弧技术及其特点,分析了该技术制备的TiAlN与TiAlSiN涂层的微观结构以及元素的存在形式,并举例说明该技术制备的TiAlN与TiAlSiN涂层的物理性能及其应用.

关键词：阴极电弧、物理气相沉积、硬度、热稳定性、微观结构、镀膜

所属期刊栏目：51

分类号：TG174.453(金属学与热处理)

资助基金：上海市教委创新基金12YZ160;上海市联盟计划L201203、L201308

在线出版日期：2015-12-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：15-19