氩气压强对TiO2薄膜结构和电学性能的影响

摘要：

通过射频磁控溅射法在玻璃衬底上沉积得到性能优异的纳米TiO2薄膜,使用智能椭偏仪、扫描隧道显微镜和能谱仪等测试方法对薄膜样品的沉积速率、电学性能以及表面形貌进行了分析.结果表明:TiO2薄膜沉积速率与溅射压强成反比,氩气压强从0.2 Pa逐渐升高至3.0 Pa,薄膜电阻率也相应减小,薄膜表面粗糙度增加;0.2 Pa时,薄膜电阻率为1.00×107Q·cm,3.0 Pa时为3.23× 105Ω·cm;同时,溅射气压越低,薄膜表面的原子扩散能力越强,薄膜更加致密.

关键词：TiO2薄膜、氩气压强、磁控溅射、电学性能

所属期刊栏目：50

分类号：O484.4(固体物理学)

在线出版日期：2014-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：21-23