磁控溅射法制备铁酸铋基薄膜的研究进展

摘要：

铁酸铋材料是唯一的室温单相多铁材料,在微电子学、光电子学等领域具有广泛的应用.磁控溅射法是制备铁酸铋薄膜的一种常见手段.本文综述了射频磁控溅射制备铁酸铋薄膜的研究进展,详细阐述了溅射工艺参数(靶材、缓冲层、溅射气压、氧气压力、沉积温度)对其微结构与电性能的影响,并提出了亟待解决的问题.

关键词：铁酸铋薄膜、磁控溅射、铁电、介电

所属期刊栏目：50

分类号：TM215.3(电工材料)

在线出版日期：2014-07-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：5-9