立体釉中彩柔抛墙地砖的研制
立体釉中彩装饰柔抛技术的核心是解决砖面装饰和冷加工工艺,使仿古砖获得光泽亮丽的抛光装饰效果.关键进行了三个方面的创新攻关:第一是立体釉中彩施釉印花技术,采用了多层套印技术,底釉-多次印花-面釉-多次印花-施透明熔块釉;第二是高光泽、高透明、高硬度的熔块釉制备,特别引入无机消泡材料,改善釉料高温熔融致密性,适合高温一次烧成;第三是立体抛光处理技术,采用硬质磨头刚性抛光与弹性软质磨头柔性抛光相结合的方法,实现了随图案纹理呈现凹凸而又光泽明亮的釉面效果.
立体釉中彩多层套印、无机消泡剂、立体抛光处理技术、国家发明专利
45
TQ174.76+4
2009-12-11(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
57-60,68