10.3760/cma.j.issn.1006-4443.2007.09.011
准分子激光原位角膜磨镶术与角膜上皮下磨镶术对中高度近视高阶像差影响的对比研究
目的 比较准分子激光原位角膜磨镶术(LASIK)和准分子激光上皮下磨镶术(LASEK)对中高度近视眼高阶像差的影响.方法 选择中高度近视行准分子激光屈光手术的连续病例27例(41眼),其中LASIK14例(23眼)、LASEK13例(18眼).使用Zeiss-WASCA客观像差仪在术前和术后6月测量患眼暗室自然瞳孔下的波前像差.结果 术后6月两组总高阶像差均方根(RMSh)以及3~5阶高阶像差均方根(RMS3~5)均明显高于术前,以RMS4最明显.LASIK组术后RMSh的增幅高于LASEIK组(P=0.042).LASIK组术后Y轴彗差(Z8)与球差(Z12)明显增高(均P<0.01).LASEK组术后Z12明显增高(P<0.01).LASIK组术后Z8大于LASEK组(P=0.021).结论 对于中高度近视矫正,LASEK对高阶像差的影响比LASIK小.
近视、准分子激光原位角膜磨镶术、准分子激光上皮下磨镶术、波前像差
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R77(眼科学)
2007-12-17(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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