UV-B增强下施硅对水稻冠层反射光谱特征的影响

摘要：

通过田间试验,在UV-B增强和施硅条件下,利用ASD便携式手持光谱仪在水稻分蘖期、拔节期、抽穗期和灌浆期选择典型晴天观测冠层光谱曲线,通过计算一阶导数曲线分析光谱的红边参数特征.UV-B辐射设2个水平,即对照(自然光,ambient UV-B,A)和UV-B增强(比自然光增强20%,elevated UV-B,E);施硅设2个水平,即不施硅和施硅(硅酸钠,200kgSiO2?hm-2).结果表明:UV-B增强下水稻叶面积指数(LAI)和叶绿素含量(SPAD值)降低,而施硅可提高叶面积指数(LAI)和SPAD值,缓解UV-B增强对水稻生长的抑制作用.各处理间水稻冠层光谱的差异主要体现在近红外波段,UV-B增强使水稻近红外波段反射率降低,施硅使近红外波段反射率上升.UV-B增强使水稻光谱红边位置蓝移,施硅使红边位置红移.随着生育期推移,水稻光谱红边位置、红边幅值和红边面积均呈现先增后减的趋势,且在拔节期达最大.

关键词：UV-B增强、施硅、水稻、光谱分析、红边特征

所属期刊栏目：38

分类号：S12;TP3

资助基金：国家自然科学基金41375159;江苏省自然科学基金BK20131430

在线出版日期：2017-04-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：172-180