日光温室黄瓜不同叶位叶片光合作用研究

摘要：

日光温室黄瓜叶片的Pn和CE以中、上位较高,尤其是第4位叶最高,顶部叶和中下位叶次之,下位叶最低,光合作用饱和光强也以中位叶最高,但光补偿点多随叶位的下降而降低,基部弱光和CE降低是导致下位叶Pn降低的主要原因.在黄瓜生长期内,各叶位叶片的Pn随PFD的升高而增大.不同叶位叶片Pn的日变化规律基本相同,均呈单峰曲线型,高峰出现在12时左右.随着种植密度的增加,植株各层次叶片的光量子通量密度逐渐降低,尤其是中下部叶片降低幅度较大.种植密度对上位叶的Pn影响不大,但对光补偿点影响较大;下位叶的Pn及其饱和光强多随种植密度的增加而降低,但不同密度处理的光补偿点差异不显著.黄瓜叶片对光强有一定的适应和调节能力,表现为光照越弱,AQY越高,对光的利用能力越强.

关键词：黄瓜、光合作用、日光温室

所属期刊栏目：35

分类号：S642

在线出版日期：2004-08-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：1519-1524